物理系科研设备 （截止到2020年8月）

 

1、高真空多靶磁控溅射镀膜系统，主要用于薄膜样品的生长制备，如半导体功能薄膜、金属薄膜的沉积等。

2、高精度化学气相沉积系统，主要用于低维材料体系的生长制备等，如单层二维材料的气相沉积，一维纳米线的生长等。

3、开放式显微探针测试系统，主要用于光电特性测量等，如光电探测器件，各种三端或两端微纳器件等。

4、高精度安捷伦双通道数字源表B2902，主要用于电学性质测量，包括场效应晶体管测量，普通伏安曲线测量等。

5、奥林巴斯金相显微镜（BX53），主要用于观测样品形貌，包括二维材料薄膜，一维材料体系，普通常规样品等。

6、多路气体控制系统，主要用于各种设备单的气体供应，如化学气相沉积系统，磁控溅射系统，普通氮气吹扫等。

7、高精度薄膜热蒸发系统，主要用于有机材料及金属材料热蒸发沉积，如OLED发光材料，金属电极材料等。

8、激光脉冲沉积系统（PLD），主要用于多种功能薄膜样品的生长，如多种半导体薄膜、金属薄膜等。

9、紫外光刻机，主要用于图案化微观形貌，如多种复杂显微图案的构建，微纳器件的设计等。

10、探针台系统，主要用于多种微纳电子元器件的测试分析，如三端场效应晶体管，两端微纳元器件等。

11、大功率固体脉冲激光器，主要用于产生大功率、超快的激光脉冲光谱。

12、荧光光谱系统，主要用于多种荧光光谱的测试分析，如稀土元素发射光谱，半导体发射光谱等。

13、安捷伦和吉时利高精度数字源表，主要用于各种元器件的电学精确测量，如各种三端器件，两端器件等。

14、双工位手套箱，主要用于对氧气、水、有机气体敏感的样品制备组装等，如锂离子电池的组装、钙钛矿材料器件的构建等。

15、傅里叶红外光谱仪，主要用于样品的定性和定量分析，如分析各种常见化学键，化学基团的振动等。

16、CSPM-5500扫描探针显微镜，主要用于低维材料体系的分析表征，如二维材料的形貌表征等。

17、X射线衍射仪，主要用于测试样品的晶体结构，进行物相分析，如粉末样品等。

18、锁相放大器及斩波器，主要用于低信噪比中信号的提取放大。

19、卓立汉光单色仪，主要用于对连续光谱进行分光，如产生连续的单色光。

20、大功率脉冲激光器1064（nm），用于产生超快的脉冲激光。

21、高稳定固体激光器（1064nm）。

22、信号采集与测量系统，主要用于各种光学和电学信号的分析测量。

23、泄露膜显微成像系统，主要用于观测表面等离子体极化激元。

24、小型三靶溅射系统及四探针测试台，主要用于溅射多种金属薄膜及对其电导率的测量，如常见Cu，Al等薄膜。

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25、交流阻抗测试仪。

26、振动样品磁场计。

27、网络矢量分析仪，主要用于电磁波能量的测试分析，如微毫米波网络特性参数的测试分析等。

28、荧光分光光度计，主要用于扫描液相荧光标记物的荧光光谱。

29、金相显微镜，主要用于观测分析多种样品的微观形貌。

30、电化学工作站，主要用于样品的电化学性能测试分析，如电极上的稳态电流的测量，循环伏安测量，交流阻抗等。

31、ZENNIUM电化学工作站，要用于样品的电化学性能测试分析，具有超灵敏恒电位，宽频率交流阻抗谱分析等。

32、蓝电电池测试系统，主要用于测试各种组装电池的电化学性能，如锂电池充放电性能、钠电池充放电性能等。

33、快速光谱分析仪，主要用于测试LED光谱功率分布，色品坐标，峰值波长，光谱半宽度，色纯度等。

34、LCR阻抗测试仪。

35、光学显微镜系统，主要用于各种样品形貌的观测分析。

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36、超声雾化热解喷涂薄膜系统。

37、高精度混气系统，主要用于两种以上的气体的均匀混合，如乙炔和氩气的混合等。

38、三温区大口径管式炉（配有水冷系统），主要用于样品的气相沉积生长，如大面积石墨烯的可控生长等。

39、多核计算机服务器，主要用于物性的高性能仿真计算等。

40、太阳光模拟系统，主要用于太阳能电池的性能测试，如电路电流，开路电压，光电转化效率等

41、多种管式烧结炉，主要用于多种样品的热处理，各种陶瓷粉体的高温烧结等。

42、多款加热烘箱，主要用于普通样品的热处理等。

43、超纯水过滤系统，主要用于实验过程中的各种超纯水制备，如电导率为18.25兆欧/厘米的超纯水。

44、多用途通风柜系统，主要用于各种简单化学样品的制备，如溶液配制，衬底清洗，实验室通风等。

45、多用途通风橱系统，主要用于常规的化学样品制备，如衬底清洗、各种溶液的配制、实验室通风等。

46、高速匀胶机，主要用于旋涂制备多种薄膜样品，如溶胶凝胶制备薄膜，多种类型光刻胶旋涂等。

47、多款Sartorious分析天平，主要用于各种化学样品的精确测量。

光电功能材料与薄膜器件实验室一角

光学微结构实验室一角

光学微结构实验室一角

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